1. Eulitha AG计算光刻主管王智鑫将在“光聚未来·第五届中国AI+AR技术应用高峰论坛（2024年9月11日下午）”会上深度解析 “位移塔伯光刻（DTL）：一种用于制造 AR 光波导的高通量、高保真光学光刻解决方案”，为AI与AR技术融合发展提供一种新的思路。

王智鑫博士现任瑞士 Eulitha 公司计算光刻团队负责人。他于 2014 年获得北京大学学士学位，2017 年获得北京大学硕士学位，2021 年获得苏黎世联邦理工学院的博士学位。

他的研究方向包括计算光刻、机器学习、光子晶体和半导体激光器等。

2. 北京优利赛尔科技有限公司销售经理王涛将在同期会议“2024年中德（欧）创新合作微纳光学制造论坛（2024年9月12日）”，进行以“位移泰伯光刻技术：一种光电应用的批量生产解决方案”为主题的演讲。