DFB(分布式反馈)和DBR(分布式布拉格反射器)

激光器是先进的激光技术，在电信、传感和光谱学等领域有着广泛的应用。DFB激光器激光腔内的周期性光栅结构，可通过Eulitha的光刻技术轻松构建，从而实现稳定的单频输出，通常用于高速光学数据传输和精确传感应用。另一方面，DBR激光器采用反射光栅结构，通过我们的光刻技术产生窄波长范围和高输出功率。它们可用于电信系统、光纤传感器和光谱分析。DFB/DBR激光器提供卓越的性能、可靠性和多功能性，使其成为广泛光学应用的关键元件。

Eulitha光刻技术支持的VCSEL(垂直腔面发射激光器)偏振光栅是一种专用的光学元件，可以控制和操纵VCSEL元件中的偏振光。这些光栅由亚波长周期性结构组成，可根据光的偏振状态选择性地透射或反射光。通过集成VCSEL偏振光栅，可以精确地控制发射光的偏振特性，从而提高基于VCSEL的系统的性能和效率。这些光栅可应用于对偏振光控制至关重要的光通信、传感和成像技术领域。VCSEL 偏振光栅为偏振管理提供了一种紧凑的集成解决方案，可改善信号质量、提高数据传输速率并增强整体系统性能。

光子晶体表面发射激光器(PCSELs)是一种创新的光发射方法，利用光子晶体结构来操纵光的行为。PCSELs的工作原理是在光子晶体光栅中嵌入一个发光活性层，从而形成一个垂直于表面发光的器件。与传统的边缘发射激光器相比，这种设计具有多种优势，比如更高的能效、制造大型阵列的能力，以及无需物理移动即可进行光束转向。PCSELs还具有单模工作，低阈值电流和高速调制能力等特点，使其成为高速数据通信和其他先进光子应用的理想选择。

由于半导体纳米线在先进的电子和光电子器件（包括节能、高亮度的纳米线基LED）中的潜力，人们对其进行了大量的研究。这些纳米线是在有图案的模板上制备的，特别是在GaN等生长基质上的电介质膜上蚀刻的纳米级孔上。这些孔通常直径约为100 nm，是垂直纳米线生长的起点。

为了在生长基底上精确和一致地打印这些孔阵列，需要一种高精度的光刻方法。虽然可以使用纳米压印和电子束光刻技术，但它们在速度、成本和可靠性方面存在局限性。PHABLE技术提供了一种解决方案，它能够均匀一致地创建所需的周期结构。可制造出直径约100nm的孔，不受间距的限制，既可用于密集孔阵列，也可用于稀疏孔阵列。Eulitha的DUV PHABLE系统可为该应用提供所需的分辨率。

Eulitha的PHABLE光刻技术是图案化蓝宝石衬底的完美解决方案，它是LED制造中的关键部件。这些图案化蓝宝石衬底(PSS)和纳米图案化蓝宝石衬底(NPSS)可促进高质量半导体层的生长，提高LED的性能和光提取效率。传统的光刻技术由于蓝宝石衬底上表面平整度很差，很难形成高分辨率、均匀和可重现的结构，往往导致成本高、产量低。然而，PHABLE技术克服了这些障碍，实现了全场曝光，以高产出和高产量制作出无缝图案，然后毫不费力地蚀刻到蓝宝石基底上。