EUV 光栅
Eulitha的EUV光栅是使用高分辨率ebeam光刻在薄的氮化硅膜上制作的。光栅通常被蚀刻到沉积在膜上的Cr膜中，我们可提供低至80nm周期的光栅。EUV光栅的应用包括光谱学和EUV干涉曝光。
我们提供以下在氮化硅膜上图案化的EUV透射衍射光栅：
Period 80nm
Period 100nm
Period 200nm
Period 500nm
样本下载:
Flyer
请点击下面链接，参阅关于在上海同步辐射实验室使用Eulitha生产的EUV光栅所从事的研究的文章。
Large-scale uniform Au nanodisk arrays fabricated via x-ray interference lithography for reproducible and sensitive SERS substrate.
