PhableR
PHABLE设备基于Eulitha采用的位移塔尔博特光刻(DTL)技术，通过低成本的光刻系统提供无与伦比的高分辨率光刻。DTL克服了传统光刻中衍射的局限性，可曝光出质量优异的亚微米周期图案。非接触式曝光可同时保护掩模版和晶圆，已获专利的无聚焦成像技术可实现在非平面基材和厚光刻胶上进行均匀曝光。
PhableR具备以低成本光刻系统曝光高分辨率周期性结构的能力。它类似于传统的紫外曝光机，将涂有光刻胶的晶圆接近掩模版，然后用一束紫外深紫外光照射。由于Eulitha的突破性PHABLE曝光技术，分辨率不再受到不希望出现的衍射效应的限制。如亚微米周期线性光栅和二维图案等结构(如六方和四方晶格曝光)，均具有高均匀性和保真度。
应用广泛，包括:
了解更多关于该产品的信息，请下载以下宣传页。
PhableR 宣传页
